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          今天是2021年4月1日 星期四,欢迎光临本站 

          国际实验室展会,国际光电展会,国际环保展会

          光电展

          2022年SPIE光刻技术博览会SPIE Advanced Lithography

          文字:[大][中][小] 手机页面二维码 2018/11/6     浏览次数:    

              

          点击下载:   2021年展商名单    2021年展位图


          展会时间:20223月2-3 (线上展会)                   

          举办周期:每年一届

          主办方:美国国际光学工程协会SPIE

           

          展会简介

          2022美国SPIE光刻技术博览会是推动未来光刻研究及应用的重要展会。同时也为参展商与其他领域的合作伙伴共同寻求新的合作机会。SPIE先进光刻技术会议(SPIE Advanced Lithography2022)是全球领先的光刻技术盛会,大会涵盖诸如光学光刻技术、EUV光刻技术、新型图案化技术、测量、检测和光刻工艺控制、材料及工艺改进、设计工艺协同优化以及先进刻蚀等领域的先进光刻与图形化技术。对于材料供应商、设备制造商及先进芯片生产商来说,都是不可错过的一场技术大餐。2020年展会共有54家参展商,展期共有7场会议,15场课程培训,500余份技术论文,吸引2100名与会者。

           

           

          为什么要参展?

          1)与行业专家面对面交流并观摩该行业最先进的科技装备。

          2)对行业领域最新研发的产品和研究成果,企业可现场见到相关的专家人员(科学家,工程师,开发人员)并同时能够对其进行比较和分析。

          3)到圣何塞与当地供应商和项目合作伙伴建立合作联系。

           

           

          参展范围:

          光刻:浸入式,双重图案,电子束,EUV,光学/激光,RET

          计量,检查,OPC和过程控制

          设计和制造软件

          材料和化学品

          成像设备

          激光器

          抵制材料和加工

          纳米压印

          IC和芯片制造

          纳米级成像

          用于纳米图案的蚀刻技术

           

           

          2022年会议主题:

          ? Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography

          ? Novel Patterning Technologies for Semiconductors, MEMS/NEMS and MOEMS

          ? Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography

          ? Advances in Patterning Materials and Processes

          ? Optical Microlithography

          ? Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability

          ? Advanced Etch Technology for Nanopatterning

           

          现场图片:

                           

                            

           


          上海品恩展览有限公司
          Shanghai PINEN Exhibition CO.LTD

          上海品恩展览有限公司(PE)是一家提供国际展览展示服务的专业机构。成立伊始,我公司就把服务贸易,立足诚信与专业作为公司的宗旨,主要从事大型境外展会组织与服务、展台设计搭建、国际货运代理、国际商贸咨询、商务考察办理、出国签证协助服务、海外市场推广等国际商务及延伸服务。

          联系人: 倪先生                    手 机:13901684989   

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